技術(shù)編號(hào):2712341
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明提供,具體步驟為步驟一、在光刻照明系統(tǒng)的柱面擴(kuò)束鏡與微透鏡陣列之間設(shè)置m個(gè)光學(xué)相位延時(shí)元件;步驟二、根據(jù)所需的光刻照明系統(tǒng)偏振態(tài)的要求,不斷優(yōu)化光學(xué)相位延時(shí)元件之間的相對(duì)位置,直至光刻照明系統(tǒng)的光瞳偏振態(tài)滿足要求為止。本發(fā)明通過(guò)優(yōu)化光學(xué)相位延時(shí)元件的相對(duì)位置,可以精確實(shí)現(xiàn)所需要的任意光瞳偏振態(tài)分布,并減少光瞳能量損失,降低光源誤差。專利說(shuō)明[0001]本發(fā)明涉及,屬于高分辨光刻。背景技術(shù)[0002]光刻技術(shù)是一種制造半導(dǎo)體器件技術(shù),利用光學(xué)的方法將掩...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。