技術(shù)編號：2711745
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種。該設(shè)備適合用于從光掩模去除殘膠，其包括光掩模，其設(shè)置為使得殘膠遺留在其上的表面指向下；金屬板，其被形成為鄰近所述殘膠；以及激光發(fā)生器，其用于照射激光在所述金屬板上使得所述殘膠被從所述金屬板生成的熱量去除。專利說明[0001]相關(guān)申請的交叉引用[0002]本申請要求2013年5月27日提交的韓國專利申請N0.10-2013-0059717號的優(yōu)先權(quán),通過弓I用的方式將其全部內(nèi)容并入本文。 [0003]本發(fā)明涉及一種，以及更具體地，涉及用...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。