技術(shù)編號：2709524
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。提供一種圖案形成方法，其包括(i)由光化射線敏感或放射線敏感樹脂組合物形成膜的步驟；(ii)將膜曝光的步驟；以及(iii)通過使用含有有機(jī)溶劑的顯影液進(jìn)行顯影以形成陰圖型圖案的步驟，其中所述光化射線敏感或放射線敏感樹脂組合物含有(A)能夠通過酸的作用增加極性以降低在含有有機(jī)溶劑的顯影液中的溶解度的樹脂，(B)能夠在用光化射線或放射線照射時生成酸的化合物，(C)溶劑，以及(D)含有具有氟原子并且不具有CF3部分結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元的樹脂。專利說明圖案形成方法、光化...
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