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低釋氣性光刻膠組合物的制作方法技術資料下載

技術編號:2706415

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本發(fā)明涉及光刻膠聚合物及包括該聚合物的光刻膠組合物。具體地,本發(fā)明涉及 適于光刻加工的聚合物及光刻膠組合物,其中該聚合物包括基于米氏酸(Meldrum's acid) (即2,2- 二甲基-1,3- 二噁烷-4,6- 二酮)衍生物的重復單元?,F(xiàn)有技術根據(jù) International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS), 2006 年 更新,EUV光刻是制造32nm半間距裝置(half-pitch dev...
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  • 孫老師:1.機機器人技術 2.機器視覺 3.網絡控制系統(tǒng)
  • 楊老師:物理電子學