技術(shù)編號(hào)：2704607
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明提供了用于光刻曝光工藝的掩模的一個(gè)實(shí)施例。該掩模包括掩模襯底；第一掩模材料層，被圖案化以具有限定第一層圖案的多個(gè)第一開口；以及第二掩模材料層，被圖案化以具有限定第二層圖案的多個(gè)第二開口。本發(fā)明還公開了利用單次曝光形成多層圖案的具有三種狀態(tài)的光掩模。專利說明利用單次曝光形成多層圖案的具有三種狀態(tài)的光掩模[0001] 相關(guān)申請(qǐng)交叉引用[0002] 本專利申請(qǐng)是2013年5月31日提交的標(biāo)題為"Method To Define Multiple Layer...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。