技術(shù)編號(hào)：2703826
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及。所述抗蝕劑組合物包含溶劑；和在所述溶劑中的樹脂，所述樹脂通過在酸或堿的存在下水解并縮合包含與硅原子或鍺原子相結(jié)合的烷氧基的含烷氧基化合物來制備，其中利用能量輻射輻照的所述抗蝕劑組合物的一部分在顯影液中是不可溶的。專利說明 [0001] 本文所討論的實(shí)施方案涉及。 背景技術(shù) [0002] 無機(jī)材料(例如氧化硅（SiO)、氮化硅（SiN)以及磷加氧化硅（PSG)和氟加氧化硅 (SiOF))和有機(jī)材料(例如聚酰亞胺）已知為用于電子設(shè)備(例如...
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