技術(shù)編號：2703751
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明公開了一種用于投影式光刻機成像系統(tǒng)的波像差檢測方法，包括光刻機成像系統(tǒng)的快速正向模型建立，澤尼克系數(shù)靈敏度矩陣的解析求解，檢測用掩模圖形優(yōu)化求解，基于單次光強測量的波像差求解。本發(fā)明方法通過解析求解無像差時的空間像光強值和澤尼克系數(shù)靈敏度矩陣，實現(xiàn)了基于單次離焦空間像光強測量的波像差檢測。專利說明[0001]本發(fā)明屬于投影式光刻機成像系統(tǒng)測量領(lǐng)域，具體涉及。背景技術(shù)[0002]在納米制造中，為了實現(xiàn)光學光刻的高精度刻蝕，需要評估光刻機成像質(zhì)量、光刻分...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。