技術(shù)編號(hào):2700727
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及用于光刻的清洗劑、抗蝕劑圖案形成方法以及半導(dǎo)體器件制造方法。特別地,提供了用于光刻的清洗劑,其包含C6-C8直鏈烷二醇和水。專(zhuān)利說(shuō)明[0001]本文所討論的實(shí)施方案涉及用于光刻的清洗劑、抗蝕劑圖案形成方法以及半導(dǎo)體器件制造方法。背景技術(shù)[0002]由于集成程度的提高,所以在半導(dǎo)體器件例如大規(guī)模集成電路(LSI)中存在形成精細(xì)圖案的需求。目前,最小的圖案尺寸達(dá)到lOOnm或更小的范圍。[0003]已通過(guò)縮短來(lái)自曝光器件之光源的光的波長(zhǎng)實(shí)現(xiàn)了半導(dǎo)體器...
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