技術(shù)編號(hào)：2699738
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明公開了一種，在形成圖案化的相移層之后，采用等離子體處理所述圖案化的相移層，生成了穩(wěn)定性更高的致密膜層，之后再進(jìn)行清洗，能夠有效的降低清洗時(shí)清洗液對(duì)相移層的腐蝕程度，從而能夠防止相移層受到較大的損耗，也就提高了相偏移光罩的質(zhì)量。專利說明[0001]本發(fā)明涉及集成電路制造領(lǐng)域，特別涉及一種。背景技術(shù)[0002]在半導(dǎo)體制程中，為了將所設(shè)計(jì)的電路轉(zhuǎn)換成器件，必須要將圖案形成在光罩上，之后通過光刻工藝將之形成在芯片上。對(duì)于一些電路圖較細(xì)微的設(shè)計(jì)而言，必須要提...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。