技術(shù)編號：2695364
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及，更詳細而言，涉及用于利用雙圖案法及雙像法形成 微細抗蝕劑圖案的。背景技術(shù)近年，使用光刻技術(shù)的半導(dǎo)體微細加工的微細化要求越來越高，作為實現(xiàn)抗蝕劑 圖案的線寬為32nm以下的工藝，提出了雙圖案法(double patterning method)(例如，日 本專利特開 2OO7-3Il5O8 號公報)或雙像法(double imaging method)(例如 Proceedings of SPIE. Vol. 6520，65202F(2007))...
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