技術(shù)編號：2693135
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種，特別是涉及曝光裝置的曝光條件和標(biāo)線片(reticule)(掩模)圖形的最佳化。本發(fā)明例如適于投影光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑大于等于0.8的曝光裝置的曝光條件和標(biāo)線片圖形的最佳化。背景技術(shù) 由投影光學(xué)系統(tǒng)將標(biāo)線片圖形曝光到晶片等的投影曝光裝置過去就已得到使用，并且對曝光裝置的分辨力的要求不斷提高。為了獲得高分辨率，增加投影光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑(NA)是有效的，但曝光條件、標(biāo)線片圖形的最佳化也重要。標(biāo)線片圖形的最佳化例如通過光學(xué)鄰近校正(Optical ...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。