技術編號：2689562
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種流場密封與注液回收裝置，特別是涉及一種用于浸沒式光刻機的氣密封和氣液隔離裝置。背景技術光刻機是制造超大規(guī)模集成電路的核心裝備之一，現(xiàn)代光刻機以光學光刻為主，它利用光學系統(tǒng)把掩膜版上的圖形精確地投影并曝光在涂過光刻膠的硅片上。它包括一個激光光源、一個光學系統(tǒng)、一塊由芯片圖形組成的投影掩膜版、一個對準系統(tǒng)和一個涂有光敏光刻膠的娃片。浸沒式光刻(Immersion Lithography)設備通過在最后一片投影物鏡與娃片之間填充某種高折射率的液體，...
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