技術(shù)編號：2688812
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種納米壓印軟模具結(jié)構(gòu)及其制造方法，尤其涉及ー種用于大尺寸非平整襯底晶圓級納米壓印エ藝的復(fù)合軟模具結(jié)構(gòu)及制造方法，屬微納米制造。背景技術(shù)納米壓印光刻(NanoimprintLithography, NIL)是一種全新微納米圖形化的方法，它是ー種使用模具通過抗蝕劑的受力變形實現(xiàn)其圖形化的技木。與其它微納米制造方法相比，NIL具有高分辨率、超低成本(國際權(quán)威機(jī)構(gòu)評估同等制作水平的NIL比傳統(tǒng)光學(xué)投影光刻至少低ー個數(shù)量級)和高生產(chǎn)率的特點，尤其在大面積...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。