技術(shù)編號(hào)：2688480
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，更具體地說，本發(fā)明涉及一種。背景技術(shù)光刻工藝是制作大規(guī)模集成電路的關(guān)鍵工藝之一。光刻工藝是將光掩模板上的版形轉(zhuǎn)移到光刻膠薄膜中，含有版形的光刻膠膜被用于后續(xù)離子注入或刻蝕制程的掩模。光掩模在光刻工藝中承擔(dān)了重要的角色。隨著半導(dǎo)體芯片的集成度不斷提高，晶體管的特征尺寸不斷縮小，對光刻工藝的要求越來越高，相移光掩模逐漸成為高端光刻工藝的主流光掩模。如圖IA所不,相移光掩模是通過對相移光掩?；宓墓饪桃豢涛g一光刻一刻蝕過程來制作。相移光...
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