技術(shù)編號(hào)：2688252
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及將布置在物面中的圖形成像在像面上的反射折射投影物鏡。背景技術(shù)這些類型的投影物鏡被用于投影曝光系統(tǒng)上，特別是用于制作半導(dǎo)體器件和其他類型微器件的晶片掃描器或者晶片步進(jìn)機(jī)，用于將光掩?；蛘呖潭绕?reticle)(以后稱作是“掩模”或者“刻度片”)上的圖形以超高分辨率按照減小比例投影到具有光敏涂層的物體上。為了制作更加精細(xì)的結(jié)構(gòu)，人們?cè)噲D增加將被使用的投影物鏡的圖像端數(shù)值孔徑(NA)并且使用較短的波長，優(yōu)選的是具有波長大約小于260nm的紫外光。然而...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。