技術(shù)編號(hào)：2686900
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于干涉光刻領(lǐng)域，尤其涉及一種三光束干涉光刻方法和系統(tǒng)。背景技術(shù)多臺(tái)階結(jié)構(gòu)是一種典型而又基本的三維結(jié)構(gòu)，在半導(dǎo)體、微光學(xué)器件、微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)以及平板顯示等諸多領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)用。在這些應(yīng)用場(chǎng)合，多臺(tái)階結(jié)構(gòu)的臺(tái)階數(shù)目、尺寸精度和表面粗糙度的要求都很低臺(tái)階數(shù)目一般為2到4臺(tái)階，臺(tái)階高度尺寸的精度要求約在零點(diǎn)幾微米到幾微米，臺(tái)階表面粗糙度要求約在零點(diǎn)幾微米。在加工方法上，可以采用掩膜光刻和激光直寫等多種方法實(shí)現(xiàn)。但是，對(duì)于一些特殊的應(yīng)用領(lǐng)域，例如光學(xué)...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。