技術(shù)編號(hào)：2686613
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于深紫外投影光刻物鏡裝調(diào)補(bǔ)償與功能性補(bǔ)償領(lǐng)域，具體涉及一種光學(xué)元件Z、tip、tilt三自由度微動(dòng)調(diào)整裝置。背景技術(shù)投影光刻裝備是大規(guī)模集成電路制造工藝中的關(guān)鍵設(shè)備，近年來隨著集成電路線寬精細(xì)程度的不斷提高，投影光學(xué)裝備的分辨率亦逐漸提高，目前波長(zhǎng)193. 368nm的ArF準(zhǔn)分子激光器投影光刻裝備已成為90nm、65nm和45nm節(jié)點(diǎn)集成電路制造的主流裝備。投影光刻物鏡的裝配過程中，為獲得良好的光學(xué)性能需要對(duì)光學(xué)系統(tǒng)的各種像差 進(jìn)行補(bǔ)償，從而相應(yīng)...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。