技術(shù)編號：2686589
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種，并且具體地涉及ー種在應(yīng)用于包括使用掩膜板的曝光步驟的半導(dǎo)體器件制造時有效的技木。背景技術(shù)在半導(dǎo)體器件的制造步驟中，當(dāng)使用光刻技術(shù)來圖案化半導(dǎo)體襯底之上方的膜時，執(zhí)行用于在掩膜板(光掩模)之上方投影圖案的曝光以將光阻劑膜形成為所需形狀。這 時，通過穿過掩膜板來阻隔曝光的部分，并且通過穿過投影透鏡以照射半導(dǎo)體襯底(晶片)的表面在尺寸上減少掩膜板透射的曝光。以這一方式，在尺寸上減少并且在光阻劑膜上投影掩膜板之上方提供的圖案。這時，為了使投影透鏡透...
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