技術編號：2686508
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及光掩模和光刻系統(tǒng)及方法，更具體，涉及光掩模及在光刻系統(tǒng)中制造和使用光掩模的方法，以及增強分辨率的工序。背景技術 光刻系統(tǒng)包括照射源，其引導例如光的輻射穿過標度線(reticle)或光掩模到光敏材料上，例如光刻膠，其涂敷在例如半導體晶片的襯底上，在其上形成例如電路圖形的圖形。隨著電路變得越來越高度集成，器件變得非常小。因此，在電路晶片上形成的圖形以及由此在用于制造電路圖形的光掩模或標度線上的相應圖形也變得非常小。為了制造這種小的圖形，光刻系統(tǒng)必須具...
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