技術(shù)編號：2686153
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于納米壓印，特別涉及。背景技術(shù)納米壓印光刻技術(shù)(Nano Imprint Lithography, NIL)是二十世紀(jì)九十年代美國普林斯頓大學(xué)的S. Chou博士首先提出的一種全新的納米圖形復(fù)制方法，它采用傳統(tǒng)的機(jī)械模具微復(fù)型原理來代替包含光學(xué)、化學(xué)及光化學(xué)反應(yīng)機(jī)理的傳統(tǒng)復(fù)雜光學(xué)光刻，避免了對特殊曝光束源、高精度聚集系統(tǒng)、極短波長透鏡系統(tǒng)以及抗蝕劑分辨率受光半波長效應(yīng)的限制和要求，其特點(diǎn)是具有超高分辨率、高產(chǎn)量和低成本。納米壓印光刻技術(shù)與傳統(tǒng)的光刻...
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