技術(shù)編號(hào)：2685860
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種光學(xué)系統(tǒng)波像差檢測(cè)裝置及方法，尤其涉及在光刻投影曝光系統(tǒng)中投影物鏡的波像差高精度檢測(cè)裝置及方法。背景技術(shù)光學(xué)投影光刻是利用光學(xué)投影成像的原理，將掩膜上的集成電路(IC)圖形以分步重復(fù)或步進(jìn)掃描曝光的方式將高分辨率的圖形轉(zhuǎn)移到涂膠硅片上。光學(xué)投影光刻技術(shù)是目前大規(guī)模低成本生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的最有效方法，該技術(shù)還廣泛應(yīng)用于平板顯示、半導(dǎo)體照明等半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，在全球信息化過(guò)程起著關(guān)鍵作用。隨著超大規(guī)模電路(VLSI)的器件密度越來(lái)越高，其特征尺寸變得...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。