技術(shù)編號：2684188
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及在使用光、電子束或離子束等帶電粒子束的光刻技術(shù)中可用作抗蝕劑 的被覆材料的抗靜電劑。更詳細(xì)來說，涉及在應(yīng)用于化學(xué)放大型抗蝕劑時，可以有效地抑制 抗蝕劑的膜減薄現(xiàn)象或成霧現(xiàn)象的抗靜電劑、使用了該抗靜電劑的抗靜電膜及被覆了該抗 靜電膜的被覆物。背景技術(shù)化學(xué)放大型抗蝕劑是使用光、電子束或離子束等帶電粒子束的光刻通用技術(shù)中的 必不可少的材料，但已知是易受使用環(huán)境影響、不易操作的抗蝕劑。 在采用水溶性被覆材料覆蓋化學(xué)放大型抗蝕劑的情況下，存在以下問題，S卩...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。