技術(shù)編號(hào)：2683644
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體元件陣列及其線路結(jié)構(gòu)，且特別是關(guān)于一種薄膜晶體管陣列及其線路結(jié)構(gòu)。背景技術(shù)近年來，隨著電子技術(shù)的日新月異，具有高畫質(zhì)、空間利用效率佳、低消耗功率、 無輻射等優(yōu)越特性的薄膜晶體管液晶顯示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display, TFT IXD)已逐漸成為市場(chǎng)的主流。在薄膜晶體管陣列的工藝中，需要形成接觸窗來導(dǎo)通不同層的線路或接墊，然而通過離子蝕刻(plasma etching)等方式來形...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。