技術(shù)編號(hào)：2682912
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及微光刻法，更具體說，是涉及用于微光刻法設(shè)備的有高數(shù)值孔徑的照明系統(tǒng)。背景技術(shù) 光刻法(亦稱微光刻法)用于制造半導(dǎo)體器件。光刻法使用電磁輻射，如紫外(UV)、深UV、或可見光，在半導(dǎo)體器件設(shè)計(jì)中產(chǎn)生精細(xì)的圖。許多種半導(dǎo)體器件，如二極管、三極管、和集成電路，能夠用光刻技術(shù)制作。在半導(dǎo)體制作中，用曝光系統(tǒng)或設(shè)備來實(shí)施如蝕刻的光刻技術(shù)。曝光系統(tǒng)通常包括照明系統(tǒng)、含有電路圖的掩模版(亦稱掩模)、投影系統(tǒng)、和用于對(duì)準(zhǔn)涂覆了光致抗蝕劑的半導(dǎo)體晶片的晶片對(duì)準(zhǔn)臺(tái)。...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。