技術(shù)編號(hào)：2682716
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及用于微光刻的成像光學(xué)系統(tǒng)，尤其是投射物鏡(projectionobjective)，該成像光學(xué)系統(tǒng)包含構(gòu)造為在成像光束路徑中引導(dǎo)電磁輻射的光學(xué)元件，用于將物場(chǎng)(object field)成像到像平面(image plane)中。背景技術(shù)投射物鏡為用于制造半導(dǎo)體組件的微光刻投射曝光設(shè)備的一部分。為了該目的，利用投射物鏡，將布置于投射物鏡的物平面(object plane)中的圖案(稱為掩模母版)成像到基底(稱為晶片)的光敏層(photo-sensi...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。