技術(shù)編號：2682552
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及使用了微透鏡陣列(microlens array)的曝光裝置及光學(xué)構(gòu)件。背景技術(shù)以往,使用了微透鏡陣列的曝光裝置作為激光退火(laser annealing)裝置而使用，并且作為在抗蝕劑膜上對掩模圖像進行投影曝光并利用之后的顯影處理形成抗蝕劑圖案的光刻用的曝光裝置而使用，上述激光退火裝置是對非晶硅膜照射激光，利用激光的熱使非晶硅膜熔融、凝固，由此將非晶硅膜改性為多晶硅膜的裝置。作為使用了該微透鏡陣列的曝光裝置，有專利文獻I中所公開的曝光裝置。在該...
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