技術(shù)編號：2678619
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種在半導體裝置的制造過程中使用的。背景技術(shù) 伴隨著半導體集成電路的大集成化以及半導體器件的小型化，人們期望能夠加速開發(fā)平板印刷技術(shù)?，F(xiàn)在，通過將水銀燈、KrF激元激光、ArF激元激光等用作曝光的光的光平板印刷術(shù)而進行圖形形成。但是，為形成圖形寬度為0.1μm以下、特別在70nm以下的微細圖形，在探討波長比所述曝光的光的波長短的F2激光(波長157nm帶)等的真空紫外線或者遠紫外線(波長1～30nm帶)的適用情況的同時，也探討了根據(jù)電子線(EB)...
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