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圖案形成方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:2678618

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本發(fā)明涉及一種在半導(dǎo)體集成電路裝置的制造過程等中使用的。并且隨著半導(dǎo)體元件的高性能化,要求進一步降低絕緣膜的相對介電常數(shù),提倡使用比通常使用的硅氧化膜相對介電常數(shù)低的低介電常數(shù)絕緣膜,例如具有空穴的絕緣膜或含有機材料的絕緣膜。下面,參照圖6(a)~(d)來說明以往的。首先,準備具有以下結(jié)構(gòu)的化學放大型抗蝕劑材料。聚((甲氧甲基丙烯酸酯)-(γ-丁內(nèi)酯甲基丙烯酸酯))(其中,甲氧甲基丙烯酸酯∶γ-丁內(nèi)酯甲基丙烯酸酯=70mol%∶30mol%)(基本聚合物)...
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