技術(shù)編號：2678151
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實用新型涉及一種涂布設(shè)備。 背景技術(shù)在半導(dǎo)體器件和平面顯示裝置制造的光刻工藝中，常涉及電路圖形在基板表面涂布光刻膠、曝光和顯影。在現(xiàn)有技術(shù)中，液晶顯示裝置(TFT-IXD)、有機發(fā)光顯示裝置(OLED)中的有源驅(qū)動方式等均涉及薄膜晶體管(TFT)的制作工藝，其包括薄膜(Thin Film)工藝、光刻(Wioto)工藝、刻蝕(Etch)工藝等工藝步驟，而光刻工藝是TFT制作過程中的核心工藝。現(xiàn)有技術(shù)中，在基板表面涂布光刻膠包括兩個步驟，分別是采用涂布設(shè)備進(jìn)...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。