技術(shù)編號：2676206
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種投影曝光裝置及位置對準(zhǔn)裝置及位置對準(zhǔn)方法。背景技術(shù) 將劃在掩模上的所定的圖案，通過曝光裝置燒附(imprint)在涂布光刻膠等感光材料的印刷電路板表面上，之后通過蝕刻工藝在印刷電路板上形成圖案的光影蝕刻法，廣泛地應(yīng)用于各種領(lǐng)域中，印刷電路板也用近來的曝光裝置制造。投影曝光裝置是將掩模的電路圖案，經(jīng)過投影曝光透鏡等光學(xué)系統(tǒng)做投影曝光，藉此將圖案用與掩模同一或一定的倍率劃在印刷電路板上，已知用于集成電路的制造，近來用該等投影曝光裝置試用于印刷電路...
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