技術(shù)編號：2673903
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種用于深紫外波段的全球面折反式準直物鏡，屬于光學(xué)設(shè)計。背景技術(shù)光學(xué)光刻是光刻機用光學(xué)投影曝光的方法將掩模板上的電路器件結(jié)構(gòu)圖形刻蝕到硅片上的過程。光刻機主要由曝光光源、照明系統(tǒng)、掩模、光刻投影物鏡以及硅片工件臺五部分組成。為獲取更高的光刻分辨率，要求曝光光源出射光的波長向深紫外甚至是極紫外波段發(fā)展，同時也要求光刻投影物鏡需要具有高的數(shù)值孔徑NA，因此，需要開發(fā)針對于深紫外入射光、高數(shù)值孔徑投影光刻物鏡的像差檢測技術(shù)。通常采用基于夏克-哈特曼波前...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。