技術(shù)編號：2673893
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光刻領(lǐng)域，尤其涉及一種。背景技術(shù)目前用于后道封裝等的光刻機(jī)，一般采用機(jī)器視覺系統(tǒng)進(jìn)行掩模和硅片對準(zhǔn)，由于捕獲對準(zhǔn)標(biāo)記范圍的限制，一般機(jī)器視覺對準(zhǔn)系統(tǒng)的成像傳感器尺寸要遠(yuǎn)大于對準(zhǔn)標(biāo)記成像的尺寸，這就造成了單次標(biāo)記成像對準(zhǔn)過程要采集遠(yuǎn)大于標(biāo)記圖像大小的成像信息，增大了數(shù)據(jù)采集、傳輸、處理時間，降低了機(jī)器產(chǎn)率。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明提出了一種光刻裝置，包括 產(chǎn)生曝光光束的光源； 用于調(diào)整所述光源發(fā)出的光束的照明裝置； 用于承載掩模的掩模臺； 用于對掩模...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。