技術(shù)編號：2673660
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造工業(yè)中的光刻制程，尤其涉及對制備掩膜過程中的光學(xué)鄰近修正(Optical Proximity Correction, 0PC)方法。背景技術(shù)集成電路制造技術(shù)是一個復(fù)雜的工藝，每隔18到24個月就會更新?lián)Q代。表征集成電路制造技術(shù)的一個關(guān)鍵參數(shù)最小特征尺寸即關(guān)鍵尺寸(Critical Dimension),從最初的125um發(fā)展到現(xiàn)在的0.13um甚至更小，這使得每個芯片上幾百萬個元器件成為可能。光刻技術(shù)是集成電路制造工藝發(fā)展的驅(qū)動力，也是...
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