技術(shù)編號(hào):2624175
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及要求耐濕性、耐氧化性的電子部件用層疊布線膜以及用于形成覆蓋該層疊布線膜的主導(dǎo)電層的一面和/或另一面的覆蓋層的覆蓋層形成用濺射靶材。背景技術(shù)不僅在液晶顯示器(以下稱(chēng)為IXD)、等離子體顯示面板(以下稱(chēng)為rop)、用于電子紙等的電泳型顯示器等的平面顯示裝置(平板顯示器、以下稱(chēng)為FPD)中需要形成低電阻的布線膜,而且在各種半導(dǎo)體器件、薄膜傳感器、磁頭等薄膜電子部件中也需要形成低電阻的布線膜。例如,就在玻璃基板上形成薄膜器件的LCD、PDP、有機(jī)EL顯示...
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