技術(shù)編號：2514534
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明提供了，裝置包括銀漿供給裝置，噴嘴高度調(diào)節(jié)模塊，噴嘴，可程控的高壓發(fā)生器，吸附平臺，運動平臺和控制單元；方法包括將太陽能基板設(shè)置于吸附平臺上，制備第一柵電極和制備第二柵電極，第二柵電極的寬度大于第一柵電極的寬度；本發(fā)明利用電紡絲直寫工藝打印太陽能電極；利用電場將噴嘴中的銀漿拉成直徑比噴嘴直徑小的絲。通過控制不同的電壓，噴嘴高度，和基板進給速度可控制打印出的柵線寬度和高度。電壓影響一定高度下泰勒錐的穩(wěn)定性。高度主要通過影響柵線在空中的固化程度來影響打印...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。