技術(shù)編號：2491928
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及。 背景技術(shù)最近幾年，隨著絲網(wǎng)印刷技術(shù)的進步，工業(yè)化生產(chǎn)的晶硅電池柵線越來越細(xì)，柵線寬度從原來的120 140 μ m，降到了現(xiàn)在的80 100 μ m。柵線細(xì)化可以減小柵線遮光面積，增大短路電流；同時，柵線細(xì)化后，金屬接觸面積減小，減反膜鈍化面積增大，可以提高開路電壓。但是，柵線不能無限制地細(xì)化，因為它受到網(wǎng)版、漿料以及硅片方阻等方面的限制。由于目前晶硅硅片的擴散方阻在逐漸提高，柵線細(xì)化后，柵線與硅片之間的歐姆接觸就會受很大影響。另一方面，由于...
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