技術(shù)編號(hào)：2478217
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種，尤其是在高分子材料上形成微納米圖案結(jié)構(gòu)的。背景技術(shù)熱壓印技術(shù)是一種可大批量重復(fù)性地制備納米圖形結(jié)構(gòu)的技術(shù)。目前，其廣泛應(yīng)用于微機(jī)電芯片、CD(Compact Disk)存儲(chǔ)與磁存儲(chǔ)、光電及光學(xué)器件、生物芯片和微流體器件等的制備。熱壓印技術(shù)(Hot Embossing Lithography，簡稱HEL)由Stephen Y.Chou于1995年首先提出并相應(yīng)提出專利申請(qǐng)，參見美國公告專利第5,772,905號(hào)。該熱壓印技術(shù)的工藝參見圖1(a...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。