技術(shù)編號：2404503
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種用于產(chǎn)生電子、離子和游離基化的原子和分子的系統(tǒng)以及方法， 用于表面處理和膜化學(xué)特性(chemistry)以及膜結(jié)構(gòu)、形成和改變(alteration)。背景技術(shù)等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)是一種用于在各種襯底上沉積薄膜的非常 公知的工藝。從玻璃制造到半導(dǎo)體制造、再到等離子體顯示面板制造的多個行業(yè)都依賴 PECVD系統(tǒng)以在襯底上沉積薄膜。PECVD系統(tǒng)在其應(yīng)用上變化很大，正如它們所沉積的膜在 它們的化學(xué)特性和質(zhì)量上變化很大一樣。典型的...
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