技術編號：2130103
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。背景技術 本發(fā)明通常涉及一種窗口，該窗口至少對于近處為透明的，且該窗口設置在腔室裝置內，用于保持橫跨窗口的壓力差，同時允許穿過它傳輸電磁輻射，特別是，本發(fā)明涉及一種窗口，該窗口在它的側邊緣的至少一部分處有平截頭幾何形狀或楔形形狀。本發(fā)明公開了用于提供壓力差的楔形窗口。采用窗口的腔室裝置常見于半導體處理領域，其中，例如半導體晶片或基底位于窗口附近，以便受到一些形式的穿過窗口的處理輻射。這樣的腔室裝置的一個實例通常用于快速熱處理(RTP)系統(tǒng)，其中處理對象或晶...
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