技術(shù)編號(hào)：1962411
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種在平板玻璃上沉積多晶13 -Ga203薄膜的方法，屬于電子材料技術(shù) 領(lǐng)域(二) 背景技術(shù)|3 -Ga203是一種寬帶隙且具有良好的化學(xué)和熱穩(wěn)定性的化合物，可廣泛應(yīng)用于高 溫氧氣傳感器、紫外探測(cè)器、磁性記憶和介電層、GaAs的消反射鍍層、GaAs表面的鈍化鍍 膜、深紫外光透明氧化物等方面。在薄膜電致發(fā)光平板顯示領(lǐng)域中，氧基熒光材料因?yàn)樗?們的寬帶隙和不易結(jié)晶的性質(zhì)，曾并不被人們所看好。然而，隨著一些關(guān)鍵技術(shù)的解決， 13 -Ga203作為一種新...
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