技術編號：1959287
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種。屬于微納米材料制備。背景技術表面微納米圖型化可以實現(xiàn)對材料表面性質(zhì)和結(jié)構(gòu)的人為可控，成為目前 一個十分活躍的研究熱點。尤其是表面高分子聚合物的圖型化，在微電子行業(yè)、 化學和生物分析、微流體、光子晶體以及生物芯片等領域有著廣泛的應用。常 用的聚合物圖型化方法是真空紫外光蝕技術(《聚甲基丙烯酸甲酯薄膜表面的 亞微米級圖案化》，《材料導報研究篇》2009年4月(下)第23巻第4期)。該 技術對聚合物的透光性、感光性有較高的要求，并且聚合物的硬度對...
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