技術(shù)編號：1493703
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及等離子體，具體的，涉及一種干法清洗時間的確定方法/裝 置，以及一種干法清洗方法。此外，本發(fā)明還涉及應(yīng)用上述方法和/或裝置的等離子體處理 設(shè)備。背景技術(shù)當(dāng)今社會，集成電路已經(jīng)應(yīng)用到了生活中的方方面面。同時，用戶對產(chǎn)品的穩(wěn)定性 和均一性提出了更高的要求。因此，生產(chǎn)企業(yè)必須不斷完善自身的生產(chǎn)工藝以適應(yīng)新的市 場需求。在實(shí)際生產(chǎn)中，用于生產(chǎn)/加工集成電路等的等離子體處理設(shè)備需要進(jìn)行定期清 洗以去除附著在內(nèi)壁上的反應(yīng)副產(chǎn)物。目前，比較有效的清潔方式是濕法清...
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