技術(shù)編號：1479285
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種清洗方法，特別是涉及一種半導(dǎo)體制程設(shè)備零部件的清洗 方法。背景技術(shù)在半導(dǎo)體制程工藝中，需要特別潔凈的環(huán)境，半導(dǎo)體制程設(shè)備尤其是腔 室的零部件在安裝使用前必需要去除表面的顆粒雜質(zhì)等污染物以達(dá)到芯片加工工藝的要求。在腔室中使用的零部件，由于在工藝環(huán)境中使用了各種工藝 氣體，腐蝕性化學(xué)物質(zhì)及等離子體的侵蝕會與零部件表面反應(yīng)而形成一些反 應(yīng)污染物，或者工藝過程中形成的副產(chǎn)物沉積吸附在零件的表面，或?qū)α悴?件表面的等離子體的轟擊損傷等等，這些都會在進(jìn)一...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。