技術編號：1451565
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。半導體的清潔發(fā)明領域本發(fā)明涉及基體表面的清潔。具體而言，本發(fā)明涉及半導體基 體表面的清潔。 發(fā)明背景隨著半導體器件大小向亞微米領域發(fā)展，與顆粒性微污染物伴 隨的難題對獲得成功設置了重大障礙。需要在半導體加工上的進展 以確?？梢员３指叩闹圃煨省Ｌ貏e地，需要改善產(chǎn)量性能(performance-at-yield)和顯著提高晶片生產(chǎn)率(例如高于160/200mm晶片/小時)以降低單位成本。正在出現(xiàn)的納米技術應用也需要特殊清潔法，并將需要新的沉積方法和新材料。在...
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