技術(shù)編號：1432311
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種太陽能單晶硅片清洗液，其包括1%～5%質(zhì)量百分比的30%的過氧化氫溶液、0.05%～0.30%質(zhì)量百分比的氫氧化鉀以及94.95%～98.95%質(zhì)量百分比的純水。該太陽能單晶硅片清洗液，利用過氧化氫的強(qiáng)氧化性及OH-對氧化膜的腐蝕作用，可以有效去除硅片表面的有機(jī)物、氧化膜及沉積在氧化膜中的污染物等臟污，提高硅片表面的潔凈度，防止植絨時出現(xiàn)白斑，產(chǎn)生色差現(xiàn)象。此外，本發(fā)明還涉及一種太陽能單晶硅片的清洗方法。專利說明[0001]本發(fā)明涉及光伏產(chǎn)品...
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