技術(shù)編號(hào)：1417015
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，特別涉及。 背景技術(shù)在半導(dǎo)體工藝中，晶圓表面的清潔度是影響半導(dǎo)體器件可靠性的重要因素之一。 在常用的半導(dǎo)體工藝中，例如沉積、等離子體刻蝕、旋涂光刻膠、光刻、電鍍等等，都有可能會(huì)在晶圓表面引入污染和/或顆粒，導(dǎo)致晶圓表面的清潔度下降，使得制造的半導(dǎo)體器件良率低。因此，如何清除晶圓表面的污染和異物質(zhì)顆粒一直是半導(dǎo)體的研究熱點(diǎn)，現(xiàn)有通常會(huì)在執(zhí)行一道半導(dǎo)體工藝后，采用洗刷清潔設(shè)備(Scrubber Clean Tool)對(duì)晶圓進(jìn)行清潔，用...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。