技術(shù)編號：1383771
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實用新型屬于物理氣相沉積，具體地說屬于濺射和電弧離子鍍設(shè)備。背景技術(shù)在濺射和電弧離子鍍鍍膜機中，通常用鍍膜機腔體的金屬內(nèi)壁(或者內(nèi)襯或者熱屏)作為陽極吸收電子；在工藝過程中，在工件表面成膜的同時，陽極表面也逐漸被污染物所覆蓋，使其導(dǎo)電性總是變化不定，嚴(yán)重情況下使陽極失去功能，出現(xiàn)所謂“陽極消失”現(xiàn)象，對膜層品質(zhì)的穩(wěn)定性影響很大，成為鍍膜工藝控制過程中一個未被重視和難以解決的問題，長期困擾著濺射和離子鍍鍍膜的研究、發(fā)展及其產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用，迄今為止尚未得到一個清...
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