技術(shù)編號(hào)：1335027
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。背景技術(shù) 1.光致抗蝕劑已廣泛應(yīng)用于集成電路如IC和LSI，顯示設(shè)備如LCD和EL設(shè)備，印刷電路板，微型電機(jī)，DNA芯片，微型設(shè)備等的平板印刷生產(chǎn)中。本發(fā)明基本上涉及一種去除各種表面如基板表面上光致抗蝕劑的清潔組合物。本發(fā)明還涉及一種去除在平板印刷生產(chǎn)中形成的蝕刻殘余物和殘留在基板表面的雜質(zhì)的方法。2.現(xiàn)有技術(shù)的描述堿性清潔組合物，如含有鏈烷醇胺和有機(jī)溶劑的組合物和含有季銨堿和有機(jī)溶劑的組合物已經(jīng)常規(guī)地用于去除光致抗蝕劑(美國(guó)專利4,276,186、4,7...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。