技術(shù)編號：12923425
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實用新型涉及一種激光掃描裝置，具體涉及一種應(yīng)用于激光濺射離子源的激光掃描裝置。背景技術(shù)激光濺射離子源作為一種穩(wěn)定的質(zhì)譜離子源，正在被廣泛使用。此離子源的原理是利用一束脈沖激光束照射金屬靶材產(chǎn)生離子，配合脈沖閥將離子送往后面的質(zhì)譜分析部分。實驗過程中發(fā)現(xiàn)，若激光束持續(xù)照射靶材上同一點，靶材上很快會被“轟擊”出一個深孔，導(dǎo)致產(chǎn)生的離子無法有效輸送到下一級，探測器觀測到的信號明顯減弱甚至觀測不到信號，就需要頻繁更換靶材，給使用帶來極大不便。所以必須設(shè)法使激光照射在靶材的不同部位，充分利用靶材的有效面...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。