技術(shù)編號(hào)：12923361
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及一種用于光彈試驗(yàn)施加荷載的支撐框架，特別涉及平面光彈試驗(yàn)中面力模擬地應(yīng)力的加載。背景技術(shù)光測(cè)彈性學(xué)方法(photoelasticity)，簡(jiǎn)稱(chēng)光彈性法，是將光學(xué)和力學(xué)緊密結(jié)合進(jìn)行應(yīng)力分析的一種試驗(yàn)技術(shù)，采用具有雙折射性能的透明材料制作出和被研究對(duì)象形狀幾何相似的模型，并使模型受力情況與被研究對(duì)象的荷載相似，將受力后的模型置于偏振光場(chǎng)之中，即可以顯示所形成的與應(yīng)力場(chǎng)有關(guān)的干涉條紋圖像，形成的這些條紋圖像與模型內(nèi)部各點(diǎn)的應(yīng)力及受力模型的邊界有關(guān)，根據(jù)光彈性原理，便可以求出模型的內(nèi)部和表...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專(zhuān)利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專(zhuān)利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。